A tecnologia de nanoimpressão da Canon visa perturbar a fabricação de semicondutores
A tecnologia de nanoimpressão da Canon busca revolucionar a produção de semicondutores
Hoje, a Canon causou sensação no mundo da semicondutora ao anunciar seus novos sistemas de litografia de nanoimpressão para produção de chips. A empresa está posicionando a tecnologia como uma alternativa aos caros e complexos sistemas de litografia ultravioleta extrema (EUV) atualmente dominados pela empresa holandesa ASML Holding NV.
De acordo com um comunicado de 13 de outubro da Canon, as máquinas de nanoimpressão da empresa podem produzir circuitos de chip de 5 nm, equivalente ao nível de ponta do EUV. A empresa prevê que melhorias nos materiais de impressão e alinhamento de sobreposição possam melhorar a resolução para 2 nm, colocando a Canon de forma decisiva na fabricação de próxima geração. Este é um salto significativo para o gigante japonês da tecnologia, após ficar para trás na corrida do EUV.
Diferentemente do uso sofisticado de lasers de alta potência do EUV, a nanoimpressão imprime diretamente padrões de circuitos nanométricos em wafers de silício usando um carimbo semelhante a um molde. A Canon acredita que esse processo de impressão mecânica mais simples fornecerá uma opção mais barata e acessível para fabricantes de chips.
Além disso, de acordo com a Bloomberg, a novidade dessa tecnologia pode permitir que ela evite restrições de exportação dos Estados Unidos para a China, nas quais os sistemas EUV estão incluídos. Um porta-voz da Canon não confirmou se os sistemas de nanoimpressão estariam sujeitos a restrições da Bloomberg.
A nanoimpressão tem sido há muito tempo apresentada como uma solução alternativa de litografia, apesar dos desafios anteriores com defeitos
Mas, após adquirir a pioneira em nanoimpressão Molecular Imprints Inc. em 2014, a Canon dedicou quase uma década para desenvolver a tecnologia e resolver essas questões. Com o lançamento comercial, a Canon agora deve provar que seus sistemas de nanoimpressão podem permitir uma fabricação confiável em grande volume.
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O rival da Canon, Nikon Corp., também lutou para acompanhar a ASML, que domina o mercado de litografia. A ASML tem visto uma demanda tremenda, com cinco trimestres consecutivos de aumento de receita, e espera um crescimento de 30% nas vendas líquidas este ano, à medida que fabricantes de chips adotam o EUV. As ações da Canon também valorizaram 26% este ano, em meio a ganhos mais amplos do mercado.
O lançamento representa a primeira incursão da Canon em sistemas de litografia de ponta, após anos focada em equipamentos menos avançados. Isso é destacado pela construção de sua nova fábrica de equipamentos semicondutores em Utsunomiya para produzir os sistemas de nanoimpressão. Se adotada com sucesso, a tecnologia poderá realmente abalar uma indústria firmemente estabelecida no EUV e acabar com o monopólio da ASML.
Crédito da imagem destacada: Jeremy Waterhouse; Pexels; Obrigado!
